X射線繞射儀

簡稱

XRD

中文名稱

X射線繞射儀

英文名稱

X-Ray Diffraction metrology

功能說明

1.多晶薄膜繞射及鑑定分析

2.薄膜晶相鑑定

3.單晶薄膜Rocking curve測定及模擬分析

4.殘留應力(Residual stress)測定

5.膜厚量測

儀器服務項目

1.薄膜繞射

2.塊材繞射

3.高溫繞射量測(最高溫可達900℃)

儀器廠牌

BRUKER

型號

D8

儀器規格

1.多晶薄膜繞射：

樣品準備：塊材樣品，0.5CM × 0.5CM   若為低略角建議試片大小   1CM x 1CM

(膜厚：20~200nm)

 2.Rocking curve：

樣品準備：磊晶薄膜樣品，大於1cm × 1cm

(需已知欲測之繞射主峰角度 (2 Theta)，磊晶層數，各層大約厚度及成份)

3. 高溫繞射：

試片建議大小為 1.8cm x1.8cm ~ 2.8cm x 2.8cm之間 ，試片厚度不得超過 5mm，

測試材料不得為高分子或易揮發材料，請清楚知道自己的材料熔點為幾度，避免試片揮發或熔解於拍攝平台上。

本儀器最高溫度可達 900℃，最高溫速率 1℃/sec

主要配件

1.X-Ray Reflectometry (XRR)

2.High Resolution X-Ray Diffraction (HRXRD)

3.Grazing lncidence Diffraction (GID)

4.Anton Paar DHS 900

樣品準備及收費

注意事項

本儀器不接受粉體或不平整試片測定

儀器放置位置

紅樓1F 微奈米科技共用實驗室-量測室